《高纯铜制备方法及研究进展》（摘要）

作者：王东，于昊松，梁栋，王立鹏，马廷壮，余镕，杨斌，田阳

王东^1,2,3#，于昊松^1,2,3,4，梁栋^1,2,3，王立鹏^1,2,3，马廷壮^1,2,3，余镕^1,2,3，杨 斌^1,2,3,4，田阳^1,2,3,4*

1 昆明理工大学 云南省有色金属真空冶金重点实验室，昆明 650093

2 昆明理工大学 省部共建复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室 昆明 650093

3 昆明理工大学 真空冶金国家工程研究中心 昆明 650093

4 昆明理工大学 冶金与能源工程学院 昆明 650093

网络首发日期： 2023-11-28

报刊名称：《材料导报》

文章概要：高纯铜因其优良的物理化学性质，在集成电路、半导体、航空航天等领域发挥重要作用。我国是铜生产与消费第一大国，但 99.999%及以上高纯铜高效制备技术的缺乏，制约着铜产业竞争力的提升，如何高效制备高纯铜是行业研究的重点。本文从高纯铜的制备方法及生产工艺出发，综述了电解、萃取、离子交换、真空蒸馏、区域熔炼等高纯铜制备工艺的研究现状，主要包括纯化机理、制备效率及提纯效果，着重归纳了添加剂、温度梯度、电流密度、保温时间等因素对制备高纯铜的影响。最后，通过对比湿法工艺与火法工艺的优缺点，重点探讨了火法真空蒸馏制备高纯铜的现状，并根据目前高纯铜制备的研究进展，展望了未来高纯铜制备的发展方向。